Microsílica altament activa per al camp de semiconductors

Microsílica altament activa per al camp de semiconductors: la pols de silici de mida micra s’utilitza principalment en els camps de dopatge electrònic de materials de nano-semiconductors, recobriments òptics, materials piezoelèctrics, òptiques metàl·liques, etc. En resum, la pols de microsílica d’alta activitat s’ha utilitzat àmpliament En molts camps per les seves excel·lents propietats físiques i químiques i, amb l’avançament continu de la ciència i la tecnologia, els seus escenaris d’aplicació continuaran expandint -se.

Aquesta pols de sílice té múltiples avantatges en la creació d'aplicacions, incloent-hi la força millorada, la millora de la durabilitat, la millor processabilitat, la conductivitat tèrmica reduïda, les característiques ambientals i la rendibilitat àmpliament utilitzada en materials d'aïllament, enginyeria de formigó a gran escala, morter, piles de canonades i diversos Altres aplicacions a tota la indústria de la construcció.

Fum de sílice per a formigó de gran resistència, fum de sílice de densitat gruixuda, pols de microsílica altament actiu, fum de sílice per a materials de lluentor, cendra de sílice, pols silici, fum de sílice blanc.